的非晶硅和晶硅的异质结结构,可以有效地提高晶硅表面的钝化质量,从而降低表面、界面漏电流,提高电池转换效率。(3)高稳定性:HIT电池没有光致衰减效应而且温度稳定性好。(4)低成本:HIT太阳能电池的晶硅厚度薄,节省硅材料;低温工艺减少能量的消耗,并且允许采用“低品质”的廉价硅衬底,有效降低了电池的成本。在硅片厚度为100微米时,HIT太阳能电池光电转换效率达到18%以上,与常规的单晶硅、多晶硅太阳能电池相比具有很大竞争优势。
Sanyo公司开发研究的HIT太阳能电池实验室转换效率已达到22.3%[1],且R.M.Swanson通过理论分析,预言这种结构电池的转换效率可以超过25%[2]。
2. HIT太阳电池的构造及工作原理
2.1 HIT太阳能电池的构造
图1-1 HIT电池结构示意图
Fig. 1-1 Schematic diagram of a HIT solar cell
图1-1为HIT电池结构的示意图,该结构中有本征非晶硅薄膜层。其特征是以光照射侧的薄层非晶Si层-p型非晶Si发射层(膜厚5~10 nm)和背面侧的非晶Si层-n型非晶Si(膜厚5~10 nm)夹住n型
单晶Si片,在两侧的顶层形成透明的电极和集电极,构成具有对称构造的HIT太阳电池。 2.2 HIT太阳能电池的工作原理
当p型的非晶硅薄膜和n型的单晶硅结合在一起,会形成p-n结。由于两边电子和空穴的浓度不同,在n区中的多数载流子(电子)向p区扩散,形成带正电的区域。同时,p区中的多数载流子(空穴)向n区扩散,形成带负电的区域。由于载载流子的扩散,形成了空间电荷区,是一个不断增强的从n型半导体指向p型半导体的内建电场。由于内建电场的存在,导致了多数载流子反向漂移。平衡后,扩散产生的电流和漂移产生的电流相等,方向相反,此空间电荷区的净电流为零。 当光照在HIT电池上时,首先被p型的非晶硅薄膜吸收,激发产生出载流子。p型非晶硅和n型晶体硅形成的p-n结,由于其内建电场的作用,p区中的少数载流子(光生电子)漂移至n型晶体
硅中,n型晶体硅中的少数载流子(空穴)漂移
至p型非晶硅薄膜层。这样,电子漂移至n型晶体硅层,空穴漂移至p型非晶硅薄膜层,于是在异质结两侧出现了光生电荷的积累,产生了光电压,形成了异质结的光生伏特效应。当上电极和下电极间接有负载时,从上电极流出的光生电流在负载上建立电压并输出功率。由此可见,HIT
太阳电池的工作原理和异质结太阳电池几乎一样。
3. HIT太阳能电池的基本工艺
以直拉n型单晶硅为衬底的HIT太阳能电池
的基本工艺,大体包括以下几个工艺: