电子电路设计训练
课程安排: 模拟部分(1-8周)&数字部分(9-16周) 模拟部分:7次课程,4次实验 公共邮箱: buaaeda@http:// Key:edaeda
电子电路设计训练
课程内容: 集成电路及其产业发展 Eda软件的发展历程 Pspice语言 Multisim软件的使用 若干设计实例
电子电路设计训练
先修课程: 电路分析 模拟电子技术基础 数字电子技术基础 信号与系统
电子电路设计训练
考核方式: 模拟和数字各占50分 模拟部分: 考试50% 实验50%(完成实验35%+实验报告15%)
Unit 1
View of EDASimulating Part
申晶 新主楼f504
IC的发展带动EDA的进步
IC的生产由设计、制造、封装业组成
制造
设计
封装
集成电路发展历程
1950年:结型晶体管诞生; 1951年:场效应晶体管发明; 1958年:集成电路产生,开创了世界微电 子学的历史; 1962年: MOS场效应晶体管发明; 1963年:首次提出CMOS技术,今天, 95%以上的集成电路芯片都是基于CMOS 工艺;
集成电路发展历程
1963年:首次提出CMOS技术,今天,95%以 上的集成电路芯片都是基于CMOS工艺; 1966年:美国RCA公司研制出CMOS集成电路并研 制出第一块门阵列(50门); 1971年:Intel推出1kb动态随机存储器(DRAM) ,标志着大规模集成电路出现; 1978年:64kb DRAM诞生,不足0.5cm2的硅片 上集成了14万个晶体管,标志着超大规模集成电路 (VLSI)时代的来临; 1988年:16M DRAM问世,1cm2大小的硅片上集 成有3500万个晶体管
集成电路发展历程
1989年:486微处理器推出,25MHz,1μm工 艺,后来50MHz芯片采用 0.8μm工艺; 1993年:66MHz奔腾处理器推出,采用0.6μm 工艺; 1995年:Pentium Pro, 133MHz,采用0.60.35μm工艺; 1997年:300MHz奔腾Ⅱ问世,采用0.25μm工 艺; 1999年:奔腾Ⅲ问世,450MHz,采用0.25μm 工艺,后采用0.18μm工艺;
集成电路发展历程
2000年:奔腾4问世,1.5GHz,0.18μm工艺; 2001年:Intel 2001年下半年采用0.13μm工艺; 2003年:奔腾4 E系列推出,采用90nm工艺; 2005年:intel 酷睿2系列上市,采用65nm工艺;。 2007年: 基于全新45纳米High-K工艺的intel酷睿2 E7/E8/E9上市。 2009年:intel酷睿i系列全新推出,采用的32nm工艺; 2011年底,intel14nm制程工艺芯片已经完成设计 计划2012一季度开始生产下一代22纳米工艺IvyBridge架构 处理器
摩尔定律
摩尔定律是由英特尔(Intel)创始人之一 戈登 摩尔(GordonMoore)提出来的。 其内容为:集成电路上可容纳的晶体管数 目,约每隔18个月便会增加一倍,性能也 将提升一倍
,而价格下降一半;或者说, 每一美元所能买到的电脑性能,将每隔18 个月翻两番。这一定律揭示了信息技术进 步的速度。
世界集成电路发展
世界集成电路产业一直以 3-4倍于国民经济增长速度 发展。每年均增长17%。
世界超大集成电路生产的主流工艺水平是直径为 12 英寸 (300mm) 硅晶圆片,光刻精度(特征尺寸)为 0.13微米,已达到22nm、18英寸(450mm)水平。 衡量集成电路产业技术水平的两个重要参数是: 晶圆直径 特征尺寸 世界最高水平的单片集成电路芯片上所容 纳的元器 件数量已经超过1亿个。
向SOC(System on Chip)发展
IC发展速度1959特征尺寸 um 硅片直径 mm 电源 V 集成度 MPU主频 Hz DRAM bit 管子价格 $ 10 25 5 5 6
19708 30 5 103 800k 1k 0.3
20000.18 200 3 108 1G 1G 10-6
20050.13 300 3 1010 5G 3G 10-8
世界IC市场 2000年世界IC市场总销售额达到$2044亿
Intel (美) 297.5 ;Toshiba112.1 ;NEC 110.8; Samsung 108.0 ; Texas Instrument 91.0 ; Motorola 80.0 ;STMicroelectronics (意法) 79.5 ; Hitachi (日立)72.8 ;Infineon(德)67.2 ; MicroTE(美)63.1 ; SUM 1087.8亿美元
中国IC的发展 2002年,市场销售额4862.5亿元,2007年, 市场销售额 5623.7亿元计算机类、消费类、网络通信类三大领域占中国集成电 路市场的88.1%
主要芯片制造厂家中芯国际,上海宏力,上海华虹,上海先进半导体,无 锡华晶上华,上海贝岭,北京首钢日电,绍兴华越
国内投资建设生产线8英寸线有6条,14英寸的在建
集成电路生产主要流程需求 设计掩膜版芯片制作 芯片检测
材料(单晶硅等)封装 测试