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2016年大连理工大学869法学综合之《知识产权法》考研内部复习题及答案(一) .............. 2
2016年大连理工大学869法学综合之《知识产权法》考研内部复习题及答案(二) .............. 9
2016年大连理工大学869法学综合之《知识产权法》考研内部复习题及答案(三) ............ 16
2016年大连理工大学869法学综合之《知识产权法》考研内部复习题及答案(四) ............ 21
2016年大连理工大学869法学综合之《知识产权法》考研内部复习题及答案(五) ............ 27
2016年大连理工大学869法学综合之《知识产权法》考研内部复习题及答案(一) 说明:①本资料为VIP包过学员内部使用资料。
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一、名词解释
1. 防御商标
【答案】防御商标是指同一商标所有人把自己的商标同时注册在其他非同种或非类似的商品上的商标。如“海尔”商标可以在家用电器之外的其他商品,甚至所有类别商品上进行注册,以阻止他人的注册和使用。防御商标的注册可以保护知名商标,不必担心因不使用而被撤销,也不必担心他人申请注册在先,可以追究他人在指定商品上使用该防御商标的侵权责任,延伸注册商标的权利。
2. 网络传播权
【答案】信息网络传播权,是指以有线或者无线方式向公众提供作品使公众可在其个人选定的时间和地点获得作品的权利。该项权利是《著作权法》修订所增列的一项重要的著作财产权。为了适应信息技术发展的需要,解决司法实践中遇到的问题,2006年5月10日,国务院常务会议审议并原则通过《信息网络传播权保护条例》,并于2006年7月1日开始施行。它的通过,标志着我国有关信息网络传播权的法律规制体系化的实现。
3. 作品
【答案】作品,是文学、艺术或者科学领域内具有独创性并能以某种有形形式复制的智力成果。作品有以下内涵:
(1)作品必须是已经表达出来的形式。在作者大脑中形成而没有以任何方式表达出来的东西,就不是著作权法所称的作品;
(2)作品必须是文学、艺术或者科学领域内的表达形式;
(3)作品必须表达出作者的综合理念。
4. 先用权与优先权(在专利制度中)
【答案】(1)概念
①先用权是指专利申请前,己经有人做好制造或者使用的必要准备,则在批准申请人的专利权之后,上述人员仍可在原范围内继续制造或者使用的权利。国际上一般都把“先用权”当作不能视为侵犯专利的情况之一。
②优先权包括国际优先权和国内优先权
a.申请人自发明或实用新型在外国第一次提出专利申请之日起12个月内,或者自外观设计在外国第一次提出专利申请之日起6个月内,又在中国就相同主题提出专利申请的,依照该外国同中国签订的协议或者共同参加的国际条约,或者依照相互承认优先权原则,可以享有优先权。
b.申请人自发明或实用新型在中国第一次提出专利申请之日起12个月内,又向国务院专利行政部门就相同主题提出改进的专利申请的,可以享有优先权。
(2)二者的关系
①二者的法律效果不同。先用权的法律效力在于阻却违法,使先用权人依先用的事实对抗专利权人的侵权主张;优先权的法律效力在于保护专利申请权人的专利申请不丧失新颖性,以第一次提出专利申请日为判断新颖性的时间标准。
②二者的保护对象不同。先用权保护的是使用他人专利者,优先权保护的是使用自己专利者。优先权的保护以保护对象日后的专利申请行为为前提,而先用权的保护则无此要求。
5. 著作权的法定许可制度和合理使用制度
【答案】(1)概念
法定许可使用,是指特定的自然人、法人或者其他组织根据法律规定,可以不经著作权人许可而使用其版权作品,但应当按照规定支付报酬的制度。
合理使用是指自然人、法人或者其他组织根据法律规定,可以不经著作权人许可,而使用他人已发表的作品,也不必向著作权人支付报酬的制度。
(2)二者的联系
法定许可使用和合理使用都是非权利人使用他人作品的正当事由,使用人无须经著作权人许可即可使用,其适用情形都由法律规定。
(3)二者的区别
①法定许可制度下,使用人虽可以不经著作权人许可而使用其版权作品,但应当按照规定支付报酬;合理使用制度下,既可以不经著作权人许可而使用其已发表的作品,也不必向著作权人支付报酬。
②法定许可制度适用于所有的版权作品,而合理使用制度只适用于著作权人己发表的作品。
二、简答题
6. 什么是发明专利?其授权条件是什么?
【答案】发明专利是专利制度中的重要组成部分,它具有自己独特的内涵与授权条件。
(1)发明专利的概念
发明专利是指发明人将其对产品、方法或其改进所提出的新的技术方案向专利局提出申请,并且通过一系列严格的审查后而被授予的一种专利权。
(2)发明专利的授权条件
①新颖性。即该发明或者实用新型不属于现有技术,也没有任何单位或者个人就同样的发明或者实用新型在申请日以前向国务院专利行政部门提出过申请,并记载在申请日以后公布的专利申请文件或者公告的专利文件中。
②创造性。依照专利法的相关规定,发明专利应具有“突出的实质性特点”和“显著的进步”。 ③实用性。即该发明或者实用新型能够制造或者使用,并且能够产生积极效果。一般具备下列条件即认为具有实用性:
a.工业实用性。一项发明或实用新型只要在任何一个工业部门能够制造或使用,即具有工业实用性。
b.重复再现性。这是指所属技术领域的技术人员,根据申请文件公开的内容,能够重复实施
专利申请案中的技术内容。
c.有益性。专利技术实施后应能产生积极效果,具有良好的技术、经济和社会效益。
7. 简述专利实施许可及类型。
【答案】(1)许可实施权的概念
许可实施权,是指专利权人(称许可方),通过签订合同的方式允许他人(称被许可方)在一定条件下使用其取得专利权的发明创造的全部或者部分技术的权利。
(2)专利实施许可的种类
①独占许可
独占许可,是指在一定地域内,被许可方在合同有效期间对被许可使用的专利技术拥有独占的权利,许可方自己不能在该地域内使用其专利技术,也不得把该技术再许可第三方使用,但专利的所有权仍属于许可方。这种许可方式不轻易被采用,它对专利权人限制太多。
②排他许可
排他许可,是指在一定地域内,被许可方在合同有效期间对被许可使用的专利技术享有排他的使用权,许可方不得把该专利技术再许可第三方使用,但许可方自己有权在该地域内使用该项技术。
③普通许可
普通许可,是指许可方允许被许可方在指定的地域内使用其专利技术,同时,许可方自己有权在该地域内使用该技术,也可以许可第三方使用。
④分许可
分许可,是指许可方允许被许可方在指定的地域内使用其专利技术以及允许被许可方在一定条件下再许可第三方使用该技术。
⑤交叉许可
交叉许可一般发生在改进发明的专利权人与原专利权人之间。改进发明的专利权人若实施其技术,必须经原专利权人许可,原专利权人若实施新的专利技术,也必须经改进专利权人的许可。在这种情况下,双方一般采用相互交换专利使用权的方式来代替相互支付专利许可使用费。
8. 简述集成电路布图设计权的保护模式。
【答案】集成电路布图设计权的保护模式是采取独立地立法模式进行保护。
(1)对集成电路布图设计单独立法的原因
①集成电路布图设计实质上是一种图形设计,并非是工业品外观设计,不能适用专利法保护。 ②集成电路布图设计是一种三维配置形态的图形设计,但其并不属于著作权意义上的图形作品或造型艺术作品。
(2)对集成电路布图设计权的立法保护
①美国是最先对布图设计进行立法保护的国家。1983年美国国会通过《半导体芯片保护法》,并将其列为美国法典版权法编的最后一章。
②1989年5月,世界知识产权通过了《关于集成电路的知识产权条约》,规定集成电路布图