知识产权法重点(17)

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连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。属于微电子技术范畴，体积小、速度快、低耗能。

2、集成电路布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上的元件和部分或者全部互联线路的三维配臵，或者为制造集成电路而准备的上述三维配臵。

3、1983年美国制定了第一部《半导体芯片保护法》，1989年5月，世界知识产权组织通过了《关于集成电路的知识产权条约》。中国于2001年3月28日通过了《集成电路布图设计保护条例》，2001年10月1日生效。

4、集成电路布图设计专有权主体资格：中国自然人、法人或其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权；外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权；外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。客体必须是具有独创性的布图设计。

5、布图设计的取得方式有以下几种：自然取得、登记取得、使用与登记取得，我国实行登记制度。登记程序主要包括以下内容：（1）申请：申请需提供布图设计登记申请表、布图设计的复制件或者图样、含有该布图设计的集成电路样品以及国务院知识产权行政部门规定的其他材料。（2）初审；（3）登记并公告；（4）对驳回申请的复审；（5）登记的撤销。集成电路布图设计专有权包括复制权和商业利用权。

6、布图设计权的行使主要分为：自己对布图设计进行复制或者商业利用，或是将布图设计权转让给他人所有，以及许可他人对布图设计进行复制和商业利用。布图设计的转让自登记之日起生效。

7、布图设计权的保护期限为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。

8、集成电路布图设计专有权的限制：（一）合理使用或利用：（1）为个人目的复制，即个人为非商业目的而复制他人的布图设计，可以不经权利人许可，不向其支付报酬；（2）供教学研究而复制；（二）反向工程：是指对他人的布图设计进行分析、评价，然后根据这种分析评价的结果创作出新的布图设计；（三）权利穷竭；（四）善意买主；（五）强制许可。

第二十五章商业秘密权

1、商业秘密是指不为公众所知悉，能为权利人带来经济利益，具有实用性并经权利人采取保密措施的技术信息和经营信息，商业秘密包括经营秘密和技术秘密。构成条件：（1）信息性；（2）未公开性；（3）实用性；（4）保密性。

第二十六章货源标记与原产地名称权

1、商品使用原产地的条件：（1）原产地名称是确实存在的地理名称，而不是臆造的、虚构的名称；（2）原产地名称的使用人，是该产地利用相同自然条件、采用相同传统技艺的生产经营者；（3）原产地名称所附着的商品是驰名的地方特产，在原产地以外的广大地域范围内为公众所知晓。

2、货源标记与原产地名称权：（1）货源标记与原产地名称权不具有个体专有的独占性。（2）货源标记与原产地名称权不具有时间性；（3）货源标记与原产地名称权不具有可转让性。

第二十七章植物新品种权

1、植物新品种是指经过人工培育的或者发现的野生植物予以开发，具备新颖性、特异性、一致性和稳定性并有适当命名的植物品种。我国于1997年3月20日颁布了《中华人民共和国植物新品种保护条例》，于1997年10月1日开始施行。

2、植物新品种法律保护条件：（1）申请品种权的植物新品种应当属于国家植物品种保护名录中列举的植物的属或者种；（2）授予品种权的植物新品种应当具有新颖性。授予品种权的植物新品种应当具备一致性；（3）授予品种权的植物新品种应当具备稳定性；（4）授予品种权

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